Издание Техносфера сообщило, что Российская академии наук (ИПФ РАН) ведет разработку первой отечественной установки литографии для производства микроэлектроники, включая 7-нм чипы.
Разработчики из РАН говорят, что на создание уйдет около 6 лет. За это время будет выпущено несколько версий установки, включая альфу и бету. Сейчас готов, как его называют, только "прототип прототипа". Он способен создавать изображения на подложках с разрешением до предельных 7 нм.
Сейчас в России могут разрабатывать микроструктуры только более 65 нанометров. В большинстве случае от 90 нм и больше благодаря зарубежному оборудованию, полученному еще в 2000-ых годах. Так что создание установки для 7-нм может стать настоящей революцией в рамках страны.
Ранее Нидерланды потратили 20 лет и 20 миллиардов долларов на создание подобной установки. В России пока нет и производства для подобных литографов.
